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等离子制砣设备

等离子制砣设备

一种等离子制砣用的挥发物收集装置的制作方法

2022年5月18日 1本公开涉及石英玻璃制造领域，具体涉及一种等离子制砣用的挥发物收集装置。 2高频等离子制砣工艺是采用2000度左右高频等离子火焰来融制石英砣产品的，在产品融制过程中会产生大量硅挥发物，必须利用排风系统 [0001]本发明涉及机械设备技术领域，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。 [0002]石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前石英玻璃制砣机的制作方法2015年12月23日械设备领域，主要目的在于使制砣机能够制备出大尺寸的石英玻璃。主要采用的技术方案为：石英玻璃制砣机，包括底座、升降座、升降机构和主轴。石英玻璃制砣机[发明专利] 百度文库本发明涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常石英玻璃制砣机的制作方法X技术

一种等离子制砣用的挥发物收集装置制造方法及图纸技高网

2022年5月19日 [0002]高频等离子制砣工艺是采用2000度左右高频等离子火焰来融制石英砣产品的，在产品融制过程中会产生大量硅挥发物，必须利用排风系统将硅挥发物排出收集才能保证摘要：本申请公开了一种等离子制砣用的挥发物收集装置。包括：管道本体和排放装置，本申请设计有管道本体，其包括管道和第二管道，管道的一端与第二管道的一端垂直连接，一种等离子制砣用的挥发物收集装置2022年7月27日 19国家知识产权局1实用新型专利10授权公告号45授权公告日1申请号9申请日01111173专利权人久智光电子材料科技有限公司地址河北省廊坊一种等离子制砣用的挥发物收集装置道客巴巴2021年3月24日制备石英砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔技术参数中建材衢州金格兰

一种石英玻璃制砣机的制作方法

2019年11月29日本实用新型涉及制砣机领域，具体涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术：石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成； 2019年4月19日一种低羟基实心石英砣的制备方法，其特征在于包括如下步骤：（1）采用等离子体装置产生的火焰作为熔制石英玻璃的热源；等离子体装置放置在熔炉顶部，熔制温度即石一种低羟基实心石英砣的制备方法百度文库本发明涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。石英玻璃制砣机是制备上述石英玻璃制砣机的制作方法本发明涉及一种低羟基实心石英砣的制备方法，属石英玻璃熔制技术领域。它是用等离子体装置作为热源，取代传统气炼制砣设备中的氢氧焰燃烧器，将石英粉料送入等离子体装置中或通过下料管进入火焰区，喷洒到石英玻璃靶托上，通过石英靶托的匀速旋转和下降运动，使靶面与等离子火焰 CNA 一种低羟基实心石英砣的制备方法 Google

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2021年3月24日石英砣技术也是朝着“精、净、大、专”方向发展。制备石英砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。各种高端石英制品还是2022年5月19日本申请公开了一种等离子制砣用的挥发物收集装置。包括：管道本体和排放装置，本申请设计有管道本体，其包括管道和第二管道，管道的一端与第二管道的一端垂直连接，且二者内部连通，管道用于排放硅挥发物，第二管道用于输送挥发气体；第二管道底端设有排放装置，排放装置与一种等离子制砣用的挥发物收集装置制造方法及图纸技高网试验设备的制作等离子体发生器的结构自制等离子体发生。为了能收集少量纳米材料粉体,在缸体中部置根支承螺栓。发明:一种用直流电弧等离子体法制取Al3O3N陶瓷纳米线的方法2007,1国家知识产权局新型:新型等离子体多极电弧法制备合金纳米粉设备2007,10。等离子体多级电弧法准备合金纳米粉设备2020年10月26日与等离子熔融工艺石英玻璃成型设备配套的真空系统框如 £ 2 所示，可实现成型设备加热桶内的真空度（气压）在01~700Torr范围内的精确控制，控制精度可达到±1%以内。 £ 2 真空系统框如 £ 2所示，真空系统的设计采用了下游控制模式，也可在等离子熔融工艺过程中，将高纯石英砂注入到旋转炉中

石英玻璃制砣机的制作方法

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一种合成超纯石英砣的方法及设备与流程

2024年9月10日二步法通过制成石英砣来二次加工成石英制品，这种方法的优点是生产工艺灵活。制砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。2015年12月21日【技术实现步骤摘要】本技术涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。技术介绍石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。石英玻璃制砣机制造技术，cvd制石英玻璃专利技高网2021年3月24日石英砣技术也是朝着“精、净、大、专”方向发展。制备石英砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。各种高端石英制品还是技术参数中建材衢州金格兰2022年9月30日二步法通过制成石英砣来二次加工成石英制品，这种方法的优点是生产工艺灵活。制砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。气炼石英砣生产工艺百度知道

半导体用石英材料知识

2020年4月4日光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料；半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低2019年11月29日本实用新型涉及制砣机领域，具体涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为sicl4)原料经水解或氧化反应产生的sio2纳米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。石英玻璃制砣机是制备一种石英玻璃制砣机的制作方法2024年5月21日 1一种合成超纯石英砣的方法，其特征在于：包括以下步骤：将高纯度硅盐前体通入蒸发装置中对硅盐前体进行蒸发气化；将气化后的硅盐前体通入反应熔炉内；将氢气和氧气分别通入燃烧器内进行燃烧，所述气化的硅盐前体与氢气及氧气在高温条件下发生反应，生成二氧化硅及尾气；收集二氧化硅一种合成超纯石英砣的方法及设备专利检索玻璃矿物或渣棉的 2022年3月19日光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料;半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低石英制品挑选与检测问题(干货知识) 知乎

【干货】做半导体用石英材料的10年经验总结工艺

2018年8月30日光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料；半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低2024年11月18日等离子体熔制法等离子体熔制法是采用等离子体为热源，高纯石英砂为原料，直接熔融制备得到石英玻璃。该方法熔制过程中不会引入外界杂质，因而采用等离子熔制法制备的石英玻璃纯度高、羟基含量低。玻璃材料的“皇冠石英玻璃,企业新闻中玻网大气等离子清洗设备SAP013 ．各式材料之表面清洁、活化或改质．增加黏着或附着性．提升组件封装、黏着或印刷之可靠度．操作简单，可调整等离子功率、处理距离、清洁速度及气体种类等．可清洁物品材质：玻璃、塑料、金属、陶瓷、橡胶等大气等离子清洗设备｜等离子技术馗鼎奈米科技股份有限公司2024年7月31日氢氧气炼法是指利用氢气和氧气，使用特殊设计的燃烧器，在专用设备上熔制石英玻璃的方法。早期较大口径的透明石英玻璃管和坩埚是用石英粉料在专用设备上利用氢氧焰直接熔制。氢氧气炼法工艺设备简单，不需要二次百亿光纤市场，石英材料成为“顶流”背后

石英制品挑选与检测问题(干货知识) 知乎

2021年9月18日光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料;半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低后在上海石英玻璃厂完善提高，形成批量生产。98产量2吨，150万。 36引进等离子二步法工艺北京605厂从法国引进二步法装备，等离子打砣机三台，无接触拉管设备，生产高质量石英玻璃管，主要用于光纤包皮管。98产量12吨，800万。石英管生产工艺大全百度文库2 天之前等离子体刻蚀设备是除光刻机以外最关键的微观加工设备，是制程步骤最多、工艺过程开发难度最高的设备。其由多个真空等离子体反应腔和主机半导体刻蚀设备行业报告：制程微缩叠加3D趋势，市场空间 2023年5月20日气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣。2、等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。百度首页商城注册登录资讯视频图片知道文库贴吧采购地图更多答案我要提问气炼气炼石英砣生产流程百度知道

LTPSCVD工艺设备介绍(超详细)pptx 52页原创力文档

2021年7月14日 LTPSCVD工艺设备介绍(超详细)pptx,CVD工艺设备介绍;CVD工艺设备介绍;一、CVD的概念、特点 ;一、CVD的概念、特点;（1）成膜速度快每可达几个μm甚至达到数百μm。同一腔室中可放置大量工件，能同时制得均匀的镀层; （2）膜层均匀性好 2021年3月24日石英砣技术也是朝着“精、净、大、专”方向发展。制备石英砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。各种高端石英制品还是技术参数中建材衢州金格兰等离子体指部分或完全电离的气体，且自由电子和离子所带正、负电荷的总和完全抵消，宏观上呈现中性电。等离子体又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子被电离后产生的正负电子组成的离子化气体状物质，它广泛存在于宇宙中，常被视为是除去固、液、气外，物质存在的第四态。等离子设备百度百科本发明涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。石英玻璃制砣机是制备上述石英玻璃制砣机的制作方法

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本发明涉及一种低羟基实心石英砣的制备方法，属石英玻璃熔制技术领域。它是用等离子体装置作为热源，取代传统气炼制砣设备中的氢氧焰燃烧器，将石英粉料送入等离子体装置中或通过下料管进入火焰区，喷洒到石英玻璃靶托上，通过石英靶托的匀速旋转和下降运动，使靶面与等离子火焰 2021年3月24日石英砣技术也是朝着“精、净、大、专”方向发展。制备石英砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。各种高端石英制品还是技术参数中建材衢州金格兰2022年5月19日本申请公开了一种等离子制砣用的挥发物收集装置。包括：管道本体和排放装置，本申请设计有管道本体，其包括管道和第二管道，管道的一端与第二管道的一端垂直连接，且二者内部连通，管道用于排放硅挥发物，第二管道用于输送挥发气体；第二管道底端设有排放装置，排放装置与一种等离子制砣用的挥发物收集装置制造方法及图纸技高网试验设备的制作等离子体发生器的结构自制等离子体发生。为了能收集少量纳米材料粉体,在缸体中部置根支承螺栓。发明:一种用直流电弧等离子体法制取Al3O3N陶瓷纳米线的方法2007,1国家知识产权局新型:新型等离子体多极电弧法制备合金纳米粉设备2007,10。等离子体多级电弧法准备合金纳米粉设备

在等离子熔融工艺过程中，将高纯石英砂注入到旋转炉中

2020年10月26日与等离子熔融工艺石英玻璃成型设备配套的真空系统框如 £ 2 所示，可实现成型设备加热桶内的真空度（气压）在01~700Torr范围内的精确控制，控制精度可达到±1%以内。 £ 2 真空系统框如 £ 2所示，真空系统的设计采用了下游控制模式，也可本发明涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。石英玻璃制砣机是制备上述石英玻璃制砣机的制作方法2021年3月24日石英砣技术也是朝着“精、净、大、专”方向发展。制备石英砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。各种高端石英制品还是技术参数中建材衢州金格兰2014年5月10日借由气体混合物发生的化学反应，包括利用热能、等离子体(Plasma)或紫外光（UV）照射等方式，在基板 (Substrate)表面上沉积一层固态化合物的过程。 CVD制程工艺及设备介绍 2014年05月10日李广录主要内容 1PECVD制程工艺介绍 2PECVD设备介绍CVD制程工艺及设备介绍百度文库